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研磨クロス・研磨パッド

シリコンウェーハやフォトマスク製造に欠かせない、超精密ポリッシング用の研磨クロス、研磨パッドです。湿式微多孔膜形成ならびにRIM発泡成形研究の成果を活かして、高精度の平滑度を実現しています。

レイノス<sup>®</sup>スエードタイプ
レイノス®
スエードタイプ
特長
不織布基材品、PETフィルム基材品、ナップ(研磨層)単体品など各種取り揃え
高精度極細ファイバーを基材とする不織布スエードは、クッション性と高い面内均一性を実現
研磨レートとキズ除去性を両立した仕上げ研磨用
レイノス<sup>®</sup>硬質ウレタンタイプ
レイノス®
硬質ウレタンタイプ
特長
ノンフィラー、フィラータイプを各種取り揃え
光学レンズやガラス基板等の粗研磨や仕上げ研磨用
レイノス<sup>®</sup>ウレタン含浸不織布タイプ
レイノス®
ウレタン含浸不織布タイプ
特長
高研磨レート、耐酸化、ロールオフの最適化に寄与
SiC等化合物やSiウェーハの粗研磨用

バッファーコーティング材

ポリイミド系耐熱樹脂をベースとした電気絶縁性や機械特性に優れたコーティング材料です。感光性タイプと非感光性タイプをそろえています。

フォトニース<sup>®</sup>
フォトニース®
特長
耐熱性、機械特性、絶縁特性、耐薬品性に関する高い信頼性
世界最高レベルの感度と高い寸法安定性の両立
感光性タイプで、ポジ型とネガ型など、用途やプロセスに応じた多様な製品ラインアップ
セミコファイン<sup>®</sup>
セミコファイン®
特長
耐熱性、機械特性、絶縁特性、耐薬品性に関する高い信頼性
500℃以上の耐熱特性
非感光性タイプで様々な加工プロセスと用途に応じた多様な製品ラインアップ(低CTE品、薄膜/厚膜加工対応品)

半導体検査装置

半導体製造の前工程から後工程までをカバーし、高精度かつ高速に検査します。独自のアルゴリズムにより、欠陥の発生を抑えて歩留まり向上をサポートします。

ウェーハ外観検査装置INSPECTRA<sup>®</sup>シリーズ
ウェーハ外観検査装置
INSPECTRA®シリーズ
特長
検査性能の向上、装置信頼性とユーザビリティを従来機種より改善
良品学習アルゴリズムにより微細な欠陥も高感度に検出
高倍率検査では従来品の2倍の検査速度を実現
電子線式半導体ウェーハパターン検査装置NGR5000シリーズ
電子線式半導体ウェーハパターン
検査装置NGR5000シリーズ
特長
NANDメモリー半導体、DRAMメモリー半導体、ロジック半導体に対応
回路の設計パターンと転写した回路の差異を電子顕微鏡で計測
高加速電子線顕微鏡により高層化が進むデバイスで高画質な画像を取得
広視野で低歪の画像取得による高速検査を実現
電子線式半導体ウェーハパターン検査装置NGR3500シリーズ
電子線式半導体ウェーハパターン
検査装置NGR3500シリーズ
特長
Die to Databaseアルゴリズムをベースに、広視野電子顕微鏡画像を活用
取得画像と設計データを高精度に比較して検査と計測を実施
パターン欠陥の高感度検査、パターン寸法の2次元多点計測を高速で実施

電子ビーム関連部品

電子レベルを扱う理化学機器に欠かせないパーツ。超微細孔加工により、電子の収束度を高めて照射される電子の精度を向上させています。

電子ビーム関連部品
電子ビーム関連部品
特長
主に前工程の半導体製造装置及び電子顕微鏡の金属部品(マスク・ウェーハ検査装置、描画装置、露光装置など)
材質はモリブデン、タングステン、チタンなどのレアメタルから様々な材料に対応
高精度の加工を実現
真空環境下でも対応可能な処理

不純物・ドーパント分析

SIMS(2次イオン質量分析)に関して最も空間分析能の高い分析装置。高感度と高い質量分析能を両立しています。

Nano-SIMS
Nano-SIMS
特長
最小50nmの高空間分解能でイメージング分析、および微小領域のデプスプロファイル分析が可能
不純物を検出できる高感度測定に対応
国内では唯一NanoSIMS測定が商業利用可能

酸化膜・絶縁膜分析

SiO2膜成膜プロセスを多角的に評価し、プロセス最適化の指針を得るための分析装置です。

SiO2膜の電気的、物理的相補解析 (水銀プローブ、RBS、XPS、FT-IR)
SiO2膜の電気的、物理的相補解析
(水銀プローブ、RBS、XPS、FT-IR)
特長
様々な分析手法を組み合わせた総合解析(ex. FT-IR、RBS、XPS、水銀プローブ法 etc.)
電気特性評価と物理分析の相補解析により、絶縁膜膜質を詳細解析
絶縁膜の信頼性向上や成膜プロセス最適化指針の獲得に寄与

再配線材料(ポリイミド樹脂)

低温硬化可能なポリイミド系耐熱樹脂をベースとした機械特性、金属配線との密着性に優れた材料であり、シートとワニスタイプを揃えています。

フォトニース<sup>®</sup>
フォトニース®
特長
低温硬化可能(<230℃)
耐熱性、機械特性、絶縁特性、耐薬品性に優れ高い信頼性を有する
感光性タイプのポジ型は世界最高レベルの高解像度、ネガ型は厚膜形成可能
ファルダ<sup>®</sup>
ファルダ®
特長
フィルム状の接着剤で、均一な膜厚を実現
耐熱性、機械特性、絶縁特性、耐薬品性に関する高い信頼性、埋まり込み性にも優れる
様々な用途やプロセスに応じた多様な製品ラインナップ(エポキシ系・ポリイミド系(感光性・非感光性))

制電ABS樹脂

制電ABS樹脂は、半導体製造工程の搬送部材など、さまざまな場面で静電気抑制のために使用されます。独自のポリマー技術により開発したABS樹脂は、持続的かつ安定的な帯電防止効果を備えています。

トヨラックパレル<sup>®</sup>
トヨラックパレル®
特長
複数回使用しても制電性が低下せず、ホコリやチリが付着しにくい
静電気破壊や静電気による電子部品の張り付きを防止
透明、非透明を問わずオールカラーでの対応が可能
カーボン脱落のリスクを低減可能

3Dプリンター用PPS樹脂

3Dプリンターに対応するPPS(ポリフェニレンサルファイド)樹脂微粒子です。独自のポリマー設計技術により、粉末床溶融結合造形(PBF方式)に最適な流動性やポリマー特性を備えています。

トレミル<sup>®</sup> PPS
トレミル® PPS
特長
機能確認用試作部品や少量最終部品・補給部品を短納期、低コストで提供可能
複雑形状な部品を、耐熱性・耐薬品性・絶縁性・難燃性に優れたPPSで提供可能(PA6も提供可能)
3D造形サービス会社から部品供給も可能

PPS樹脂

結晶性の熱可塑性エンジニアリングプラスチックであり、耐熱性、耐薬品性、寸法安定性などに優れています。パワー半導体モジュールのケースや端子台に採用されています。

PPS樹脂 トレリナ<sup>®</sup>
PPS樹脂 トレリナ®
特長
半導体素子の発熱や外部からの衝撃などに耐える耐熱性と強度(薄肉でUL94難燃性V-0、RTI150℃以上を実現)
寸法安定性、耐ヒートサイクル性に優れるため車載環境にも対応。端子をインサート成形する必要のあるxEV向けPCUや小型化ケース用途に最適。良流動のため、複雑・薄肉製品設計が可能
CTI≧600V取得の高耐トラッキンググレードをラインアップしており高電圧仕様の電鉄向けや発電所向けパワー半導体ケースに使用可能。また車載用では高耐トラ樹脂の使用により絶縁を保ちながら沿面距離を短縮可能

ダイシングフィルム

「ダイシングテープ用の基材」と「押出製膜でつくる感圧タイプのダイシングテープ」。2つのカテゴリの製品をご提案可能です。

トレヴァス<sup>®</sup>
トレヴァス®
特長
バリの発生しにくいダイシングテープ基材(PO系)
ウェーハ用のダイシングテープ基材(PO系)
PVC(塩化ビニール)の代替基材(PO系)
押出製膜でつくる自己粘着タイプの感圧ダイシングテープ(PO系、溶剤フリー、可塑剤フリー、ノンセパレーター)

モールド離型フィルム

半導体封止工程用のモールド離型フィルムでありノンシリコーン、非フッ素、非ハロゲン系でありながら離型性に優れています。

セラピール<sup>®</sup>
セラピール®
特長
ノンシリコーン系、非フッ素系、非ハロゲン系でありながら離型性に優れる
高柔軟性で優れた金型追随性
金型汚染の少ない低汚染性
薄膜で長尺可能ながら破れにくい高強度

高精度実装装置(フリップチップボンダー / ダイボンダー)

半導体パッケージの実装に使われる高精度フリップチップボンダーです。R&D用途から量産用途まで、幅広く対応しています。2.5、3次元実装・FOWLP・PLPなど多彩なボンダーをラインアップしています。

フリップチップボンダーFC3000W
フリップチップボンダー
FC3000W
特長
COW用TCB装置、開発~量産対応
高精度(<±1.5μm)、高荷重490N対応
フリップチップボンダーFC6000H
フリップチップボンダー
FC6000H
特長
アプリケーションプロセッサ最上位機種向け
高精度(<±2μm)と高UPHを両立
PLPボンダーMD5000/MD5000T
PLPボンダー
MD5000/MD5000T
特長
PLP(パネルレベルパッケージ)用ダイボンダー/フリップチップボンダー
高精度(<±1μm)

レーザートリミング装置

レーザーアブレーションによりガラス基板又はウェーハのパターン加工や異物除去を実現します。

レーザーマイクロトリミング装置LMT-TR
レーザーマイクロトリミング装置
LMT-TR
特長
マイクロLED向け、トリミング/トランスファー/メタルカット装置
ワーク材質によりレーザー波長の切替可能
レーザスポットサイズを2~300μmまで可変可能
レーザーマイクロトリミング装置LMT-HR
レーザーマイクロトリミング装置
LMT-HR
特長
アナログ半導体向けヒューズカットレーザ装置
高精度アライメント(<±0.2μm)装置
4~12インチまで対応

計測分析機器

半導体チップパッケージ内部を非破壊・非接触により内部欠陥検査する超音波映像装置用のセンサとして、多くの採用実績があります。

超音波トランスデューサ
超音波トランスデューサ
特長
半導体分野で要求される、20MHz~150MHzの幅広い周波数帯域に対応
独自の高分子圧電体P(VDF-TrFE)フィルムを使用することで高精度な出力の取得が可能
パルス信号送受信モジュールであるパルサーレシーバもラインナップ

真空樹脂注入機

ケース型モジュール、ダイレクトポッティング樹脂封止に最適。高粘度から低粘度まで広範囲な樹脂特性に対応し、2液混合したエポキシ樹脂を真空チャンバー内で対象ワークへ注入します。

真空樹脂注入機
真空樹脂注入機
特長
高真空状態での樹脂撹拌により、樹脂の脱泡を実施
難脱泡樹脂用に薄膜脱泡式タンクを開発し、高速脱泡を実現
撹拌真空脱泡→2液計量→混合→真空注入の製造工程を一連で樹脂成形
エポキシ樹脂の主剤、硬化剤の2液撹拌、混合前に自動真空脱泡が可能
耐摩耗性セラミック製高精度ポンプにより、長期にわたり安定した注入量を実現

ディスペンサーノズル

合成繊維紡糸ノズルで培った加工技術と経験を活かして、様々なアプリケーションや液剤に最適な高精度かつ高品位なノズルの設計・製作に対応します。

ディスペンサーノズル
ディスペンサーノズル
特長
吐出液の粘度や表面張力を考慮した設計加工により吐出精度を向上
孔形状は丸孔をはじめ、変形孔やパイプなどさまざまな形状に対応
塗布点が複数のマルチノズルにも対応

無振動式パーツフィーダ

従来の電磁振動によらずワークを整列・供給するため、ワークへのダメージを極限まで抑制します。無振動であるため帯電抑制、装置機内検査、静粛性に優れており、複数品種のワークに対応できます。

トレフィーダ<sup>®</sup>
トレフィーダ®
特長
無振動で部品を整列搬送できるのでダメージを最低限に抑制
振動音がなく優れた静粛性
長短辺方向合わせの他、面合わせ・検査機能を追加可能
専用パーツを用いることで、現場の作業者が品種切替可能

加熱in-situ TEM

加熱ホルダーを使って加熱時の構造変化をIn-situによるTEMにより観察が可能です。

加熱in-situ TEM
加熱in-situ TEM
特長
加熱in-situホルダーにより、熱処理による挙動を高分解能で直接観察
室温から1,300℃までの幅広い温度帯に対応
プログラムによる精度の高い温度・時間制御の設定

熱特性評価

各種材料やデバイスの熱特性を高精度に評価する技術を提供しています。

熱特性評価(熱伝導率,熱膨張率,熱ひずみ)
熱特性評価(熱伝導率,熱膨張率,熱ひずみ)
特長
製品の設計やシミュレーションの高精度化、トラブル解決などに活用
最新の装置導入による実製品の熱特性(熱伝導率、熱膨張率、熱ひずみ)を高精度に評価
軟質材料、半固体などの不定形材料や複合材料も測定可能

切削部品用素材(PPS/PEEK/PAI丸棒・板)

高精度かつ高効率の切削を実現するため、硬度や耐摩耗性はもとより高い耐熱性や耐薬品性まで、求められるスペックに適応できる幅広い製品を揃えています。

PPSスーパーエンジニアリングプラスチック素材
PPSスーパーエンジニアリング
プラスチック素材
特長
線膨張係数が低く、吸水性も少ないため寸法安定性に優れる
有機溶剤、無機の強酸や強アルカリなどへの耐薬品性に優れる
高い対熱水性を求めない場合、PEEKと比べて低コスト
PFAS対応への代替素材提案
PEEK汎用・エンジニアリングプラスチック素材
PEEK汎用・エンジニアリング
プラスチック素材
特長
耐熱水性に優れ、200~260℃のスチーム中で連続使用可能
高温下での耐酸、耐アルカリ性など極めて優れた耐薬品性
高い燃焼性と燃焼時の煙や有毒ガスの発生も非常に少ない
PAI丸棒・板(切削部品用素材)
PAI丸棒・板(切削部品用素材)
特長
無充填(非強化)プラスチックでは最高の機械強度
自己潤滑性があり200℃を超える高温部で無給油の摺動部材として使用可能
200℃の高温下でも優れた耐摩耗性
信頼性確認プロセス「バーイン」、製品検査・信頼性試験装置のソケット、治具などでの採用実績

クリーニングクロス

生産工程や検査工程でのふき取りに求められるハイレベルな清浄性をクリアするため、直径2ミクロンの超極細繊維を採用し、単位面積あたりの本数と空隙の多い構造となっています。

トレシー<sup>®</sup>
トレシー®
特長
独自の超極細繊維による優れた拭き取り性能
毛羽落ちや自己発塵が少なくリントフリー性が高い
特殊ヒートカット処理、クリーン洗浄による高い清浄性
毛細管現象による高い吸水性、吸油性

レジスト剥離溶剤(DMSO)

多くの有機化合物や無機化合物を溶かし、安全性も高い非プロトン系極性溶剤です。半導体や電子部品の洗浄液や剥離剤として活用されています。

DMSO(ジメチルスルホキシド)
DMSO(ジメチルスルホキシド)
特長
金属不純物含有量を世界で最も厳しいレベルで管理
多くの半導体用途での採用実績

半導体検査装置(ウェーハ外観検査装置 / 蛍光検査装置)

INSPECTRA®シリーズは、半導体製造の前工程から後工程までを、高速かつ高感度でウェーハの全数検査を実現します。 INSPECTRA® PLシリーズは、PLにより可視光外観検査では見えなかった結晶欠陥、クラック、発光不良を自動検査します。

ウェーハ外観検査装置INSPECTRA<sup>®</sup>シリーズ
ウェーハ外観検査装置
INSPECTRA®シリーズ
特長
検査性能の向上、装置信頼性とユーザビリティを従来機種より改善
高倍率検査では従来品の2倍の検査速度を実現
ダイシング後ウェーハ検査可能なタイプなど幅広いラインナップ
蛍光検査装置 INSPECTRA<sup>®</sup> PLシリーズ
蛍光検査装置
INSPECTRA® PLシリーズ
特長
独自の光学系と検査アルゴリズムにより高速・高感度で結晶欠陥を検出、分類
オプション搭載によりパターン工程の外観検査までに適用可能
可視光検査とPL検査の組み合わせによりキラー欠陥を特定可能
ウェーハ内部欠陥検査装置 INSPECTRA<sup>®</sup> IRシリーズ
ウェーハ内部欠陥検査装置
INSPECTRA® IRシリーズ
特長
1台の装置で赤外光と可視光、どちらの欠陥検査にも対応
良品学習アルゴリズムにより微細な欠陥も高感度に検出
赤外光検査では、高感度カメラの採用によりウェーハ内部検査を高速化
可視光検査も選択でき、幅広い検査ニーズに対応
重ね合わせ測定装置 OM-7000H
重ね合わせ測定装置
OM-7000H
特長
ウェーハ貼り合わせのズレ、表裏アライメントを高精度に測定
完全自動測定に対応
透過/反射のいずれの測定にも対応

酸素濃度計

独自のジルコニアセンサ技術により、酸素濃度を高精度で信頼性高く測定できます。製造装置チャンバー処理室での微量な酸素から100%まで、幅広い濃度の酸素の監視が可能です。

酸素濃度計(前工程用)
酸素濃度計(前工程用)
特長
マルチポイント測定に対応し、最大8ポイントでの同時測定可能
ppmレベルからの濃度表示が可能
サンプリング方式は、ポンプ吸引式や真空測定が可能な拡散式に対応
酸素センサに特殊加工を施し耐久性を向上
酸素濃度計(後工程用)
酸素濃度計(後工程用)
特長
ppmレベルから100%の幅広い測定が可能
酸素センサに特殊加工を施しセンサ劣化成分に対し耐久性向上

インクジェットノズル/吸着プレート/アパーチャー、
オリフィス、コリメータ

インクジェットノズル、吸着プレート、アパーチャー・コリメーター・オリフィスなど、半導体製造の工程に欠かせない精密穴加工部品を各種カスタム製造します。

インクジェットノズル
インクジェットノズル
特長
高精細な塗工ができる小径サイズの孔を加工(最小孔径:Φ0.1μm)
サブミクロンオーダーの加工精度を実現
孔内壁面をナノオーダーの表面粗さで滑らかに製作
ご希望の穴形状へカスタムメイド
吸着プレート
吸着プレート
特長
高精度な微細孔と位置精度と高い平面度で均一に吸着固定が可能
製品への吸着痕やシワ対策が可能
オーダーメイドで吸着エリアを自由設計
アパーチャー、オリフィス、コリメータ
アパーチャー、オリフィス、コリメータ
特長
超微細穴の深穴加工が可能(例:穴径Φ0.003mm 厚み 0.010mm)
最小穴径はΦ0.1μmから対応
材質はモリブデン、タングステン、チタン、タンタルなどのレアメタルから様々な材料に対応

生産管理システム

東レグループのものづくり現場課題の解決を通して生み出された生産管理システム。生産活動の多様なデータを共有し、計画・実行・評価を支援します。

生産管理システム TONOPS<sup>®</sup>
生産管理システム TONOPS®
特長
豊富なテンプレートによるセミパッケージ方式
きめ細かく柔軟なカスタマイズ対応
様々な生産プラントや自動化設備との連携も可能

水処理膜

かん水処理・海水処理・廃水再利用、そして各種特殊用途における最新の製品・技術により水処理に関する総合的なソリューションを提供します。

逆浸透膜(RO)
逆浸透膜(RO)
特長
中性分子成分(ホウ素、シリカ等)の高い除去性能(TBW-HRシリーズ)
高除去、高造水量型(省エネ)等、プロセスに応じた多様な製品ラインナップ
限外ろ過膜(UF)
限外ろ過膜(UF)
特長
東レ独自の製膜技術により高透水性(省スペース)と高強度(長寿命)を両立
公称孔径0.01μm、除濁膜では高精細なろ過を実現
膜分離活性汚泥法(MBR)
膜分離活性汚泥法(MBR)
特長
従来法(活性汚泥法)に比べて清澄な処理水、大幅な省スペース化
NHP/NHPAシリーズにより、支持板レスを実現
モジュール重量・体積低減による高充填率化(省スペース)とメンテナンス性向上

超純水用TOC計

純水に含まれている全有機体炭素量を迅速かつ正確に自動測定。洗浄工程で使用される純水の再利用可能性を判断し、半導体製造工程の純水の水質を管理します。

超純水用TOC計
超純水用TOC計
特長
湿式紫外線酸化/CO2検出方式による連続測定で高速応答(90%応答5分)
オートゼロ、自己診断機能により長期間安定した測定が可能